Het Advanced Research Center for Nanolithography (ARCNL) verricht fundamenteel onderzoek naar de natuurkundige en chemische processen die een rol spelen bij nanolithografie, met name naar interessegebieden van de halfgeleiderindustrie

ARCNL is een publiek-privaat samenwerkingsverband tussen NWO, de Amsterdamse universiteiten UvA en VU en ASML, fabrikant van halfgeleidermachines. ARCNL combineert het beste van twee werelden: de academische aandacht voor wetenschappelijke excellentie én de focus op mogelijke toepassingen voor de industriële partner ASML. In het onderzoeksprogramma van ARCNL is een grote rol weggelegd voor de fysische en chemische processen rondom extreem ultraviolet (EUV) licht. Maar ARCNL richt zich ook op onderzoek naar lensless imaging, geavanceerde laserfysica, plasma- en vloeistofdynamica, oppervlaktefysica en tribologie.  

ARCNL is opgericht in 2014 en groeit de komende jaren naar 100 medewerkers in wetenschappelijke en ondersteunende functies. ARCNL biedt een internationale werkomgeving met veel aandacht voor samenwerking. In het najaar van 2018 verhuist ARCNL binnen het Amsterdam Science Park naar een naastgelegen, nieuw gebouw.

Ben je op zoek naar een baan waarin fundamenteel wetenschappelijk onderzoek en toepassing hand in hand gaan? ARCNL heeft regelmatig vacatures voor masterstudenten, promovendi, postdocs en technici. Meer informatie over werken bij ARCNL vind je op: https://arcnl.nl/working-at-arcnl